DB-FIB

Co rápido avance da electrónica de semicondutores e das tecnoloxías de circuítos integrados, a crecente complexidade das estruturas de dispositivos e circuítos elevou os requisitos para o diagnóstico de procesos de chip microelectrónico, a análise de fallos e a fabricación de micro/nano.Sistema Dual Beam FIB-SEM, coas súas poderosas capacidades de mecanizado de precisión e análise microscópica, tornouse indispensable no deseño e fabricación microelectrónica.

Sistema Dual Beam FIB-SEMintegra tanto un feixe de iones enfocados (FIB) como un microscopio electrónico de barrido (SEM). Permite a observación SEM en tempo real dos procesos de micromecanizado baseados en FIB, combinando a alta resolución espacial do feixe de electróns coas capacidades de procesamento de materiais de precisión do feixe iónico.